В 2026 году в России планируется запуск разработки первого в стране литографа, который будет использовать 90-нанометровую технологию. Эту информацию озвучил заместитель министра промышленности страны в конце марта. В настоящее время в России уже имеется подготовленный 350-нм литограф, а работы по созданию 130-нм модели находятся на завершающей стадии.
Российская микроэлектронная отрасль продолжает продвигаться в направлении импортозамещения литографического оборудования, начатого в 2022 году. Ожидается, что в течение 2-3 лет будут готовы первые 90-нм чипы, которые найдут применение в таких областях, как интернет вещей (IoT), автоэлектроника и производстве SIM-карт.
Головным разработчиком литографов является Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев сообщил о целях освоения полного цикла фотолитографии без зарубежного оборудования и снижении производственных рисков. По его словам, уже заключены контракты на поставку новых машин, а также ведется тестирование технологий с заказчиками.
Важным фактором остается стабильное финансирование и отсутствие вмешательства «влиятельных инвесторов» в отрасль, что позволит развивать технологии дальше.