Японская корпорация Dai Nippon Printing сделала значительный шаг в области нанолитографии, предложив метод, который может составить конкуренцию доминирующей на рынке фотолитографии. По информации Nikkei Asia, в настоящее время нидерландская компания ASML контролирует до 90% рынка оборудования для производства чипов с помощью фотолитографии, которая требует больших энергетических затрат и стоит сотни миллионов долларов.
Новая разработка японцев предполагает использование нанолитографии, при которой схемы не рисуются лазером, а отпечатываются на кремниевых пластинах. Ранее считалось, что этот метод не подходит для создания чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров, однако инженеры Dai Nippon Printing разработали специальный материал, который позволяет преодолеть это ограничение.
Также используется оборудование компании Canon, способное создавать структуры размером до 1,4 нанометра. В результате новая технология оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии.
Крупнейшие производители, такие как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia, проявили интерес к этой перспективной разработке. Kioxia уже начала тестовое производство, и если испытания окажутся удачными, массовое внедрение новой технологии может начаться в 2027-2028 годах.