В Зеленограде состоялась презентация нового оборудования для плазмохимического осаждения и травления, разработанного компаниями НИИМЭ и НИИТМ. Это событие имеет важное значение, ведь подобные установки производят всего пять компаний в мире. На мероприятии, прошедшем 10 декабря, были подписаны документы о госпримке новинки.
НИИ молекулярной электроники курировал проект, включая строительство чистых помещений и разработку технологических процессов. Инвестиции в проект составили 2,5 млрд рублей, полученные от Минпромторга и собственных вложений НИИМЭ.
Созданные системы предлагают решение для 30–40% всех этапов производства микросхем, позволяя объединять несколько установок с общей системой загрузки для повышения качества и снижения затрат.
Новые установки смогут производить интегральные микросхемы до 65 нм на 200 и 300 мм пластинах, что обеспечит гибкость в переходе на современные технологии. НИИМЭ и НИИТМ вошли в число пяти мировых лидеров в области разработки такого оборудования.
Производители планируют искать заказчиков как на российском, так и на международном рынке, включая презентацию в Китае в следующем году. Генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков отметил, что для выпуска одного комплекта оборудования потребуется около 1,5 лет.