На заводе Samsung в Тейлоре уже статовали испытания оборудования для EUV-литографии при поддержке ASML, ведущего голландского производителя. В условиях ограничений, наложенных TSMC на производство 2-нм чипов в США, Samsung получает шанс занять значимую долю рынка высокотехнологичных микросхем, предлагая свои решения крупным американским компаниям, включая Tesla и других лидеров отрасли.
Сейчас на завод объявлено 183 вакансии для инженеров и техников, специализирующихся на литографии, травлении, осаждении, химико-механической полировке, метрологии и работе в чистых помещениях. Планируется прямое трудоустройство 1500 сотрудников, преимущественно местных, а также привлечение приерно 1500 инженеров от поставщиков оборудования, таких как ASML, Lam Research и KLA. В итоге численность персонала во время подготовки к запуску может достичь около 3000 человек.
Кроме 2-нм технологий, в списках вакансий упоминаются работы с узлами от 45 нм до 14 нм, что свидетельствует о поддержке существующих производств, включая предприятие Samsung в Остине.
Первоначальная производственная мощность завода составит 50 тысяч пластин в месяц с применением архитектуры транзисторов с круговым затвором (GAA). При успешном завершении тестирования полномасштабный запуск ожидается в 2027 году. Однако процесс установки и наладки оборудования может занять от одного до трёх лет, что является более осторожной оценкой, чем ранее заявленные сроки.
Проект частично финансируется через «Закон о чипах» — Samsung уже получила предварительный грант в размере 6,4 миллиарда долларов. Для эффективного взаимодействия с властями и обеспечения инфраструктуры компания наняла директора по связям с правительством Техаса, который координирует вопросы льгот, коммунальных услуг, водоснабжения и электроэнергии — жизненно важные для работы завода.