В 2026 году в России стартует проект по созданию литографа, предназначенного для производства чипов с топологией 90 нм. Об этом заявил заместитель министра промышленности Василий Шпак на научно-технической конференции радиоэлектронной отрасли 20 марта 2026 года. Исполнитель работ будет выбран на основе конкурса, который организует Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) в сотрудничестве с белорусским предприятием «Планар». В прошлом компания уже разрабатывала литографы с разрешением 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв сообщил, что пока не принято решение о участии в конкурсе. В ноябре 2026 года планируется завершение проекта степпера с разрешением 130 нм. Эксперт Дмитрий Пшиченко отметил, что разработка нового литографа может занять 5-10 лет и потребовать значительных инвестиций. Для локализации существующих решений сроки могут составить 2-4 года. Основное внимание следует уделить созданию полной экосистемы компонентов, необходимых для работы литографа.