Китайская полупроводниковая индустрия сделала важный шаг вперед, создав прототип установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология, ранее доступная только голландской компании ASML, жизненно важна для производства современных процессоров. Несмотря на усилия США по предотвращению передачи технологии Китаю, новые данные свидетельствуют о значительном прогрессе китайских инженеров. В последние годы компании, такие как SMIC, пытались воспроизвести технологии ASML, используя устаревшие компоненты и привлекая специалистов. ASML ранее подала иски против китайских сотрудников, обвиняя в краже коммерческой тайны. Несмотря на успехи, серийное производство чипов с использованием EUV еще не начато, но Китай планирует массовое внедрение к 2030 году. Это развитие происходит на фоне технологического соперничества с США, особенно в эпоху искусственного интеллекта. Также стоит отметить, что компания Huawei совместно с SMIC активно развивает производственные мощности в стране.