Производственные предприятия в Китае начали обновлять свои ASML-машины для создания ИИ-чипов, чтобы обойти международные экспортные ограничения и сократить отставание от США в области искусственного интеллекта. Как сообщает Financial Times, китайские заводы, специализирующиеся на производстве высококачественных смартфонов и чипов для ИИ, увеличили эффективность своих систем глубокого ультрафиолетового литографирования (DUV), поставляемых нидерландской ASML. Из-за запрета на экспорт современных DUV-систем китайские производители вынуждены использовать устаревшие модели, такие как Twinscan NXT:1980i, для создания 7-нм чипов. Источники утверждают, что китайские фабрики приобретают необходимые компоненты на вторичном рынке и проводят модернизацию существующих систем. ASML, в свою очередь, заявляет о полном соблюдении действующих законов и ограничений. Тем не менее, этот процесс демонстрирует стремление китайских компаний найти пути обхода международного контроля, направленного на сдерживание их технологического прогресса.