Министерство промышленности и торговли России сообщило о достижении важного этапа в области микроэлектроники — создании первого отечественного оборудования для производства микрочипов. Эта вакуумная установка может обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 миллиметров и производить электронные компоненты с технологическими нормами до 65 нанометров. Разработка была осуществлена АО «НИИМЭ» совместно с АО «НИИТМ», которые представили кластерные установки плазмохимического травления и осаждения. Это событие знаменует собой значительный прогресс в создании полного цикла производства микроэлектроники в стране, что подчеркивает важность вакуумной обработки заготовок для чипов. Также стоит отметить, что данное оборудование позволит проводить высокоточные операции, что является важным аспектом в производстве современных электронных компонентов.